双葉電子記念財団 2026年度 自然科学研究助成
(申請期限:2025年10月15日)

当財団は、自然科学・技術に関する学術及び産業社会における基盤技術の研究開発を奨励することにより、自然科学・技術等の発展と産業の振興に寄与することを目的として設立されました。この設立趣旨に基づき、国内の大学・研究機関等の研究者を対象に、自然科学・技術の基礎及び応用分野に於ける独創的な研究成果の実現・展開(学会・学術シンポジウム等の開催支援を含む)への取り組みを支援します。
申請期限2025年10月15日
対象地域全国
対象団体下記項目の全てに該当する申請を選考対象とします。
(1)日本国内に所在する大学・公的研究機関等に勤務し、自然科学において主体的に独自の研究を進めている研究者又は代表研究者であること
(2)大学から許可された研究であること(学部長以上の推薦または倫理委員会等の承認があった旨の明記要)
(3)申請書類を自分自身で日本語にて作成し、日本語での面接審査を受けることができること
(4)国籍・性別・年齢・人種は問いませんが、助成期間中及び将来にわたり日本において研究継続の意思がある者
(5)独創的萌芽的な研究の育成・発展を助成するという趣旨から、申請するテーマで国家レベルの研究組織等で既に大型プロジェクトに参加していないこと(申請時にエフォート値に記入が求められます)
(6)同一テーマ・同一実施計画で複数の助成先へ応募していないこと
(7)助成決定後又は助成期間中に、申請研究やテーマを全うする事が出来ないような事情が発生した場合、助成金返還を承知する者
※ご不明な点につきましては、当財団事務局までお問合せください。
対象活動申請される方は、該当する技術分類番号A~Eを選択してください。次にキーワードを具体例から選び記入してください(具体例は複数記入可)。
またキーワードの具体例に該当するものが無い場合は、新たな具体例を記入してください。

A 情報通信
超高速情報処理、次世代高速データ通信、情報セキュリティ、ネットワーク、データベース、仮想現実およびその応用、AIおよびその応用、等々

B ロボティクス
先進機能ロボティクス、人間-機械システム、人間医工学、センサ・アクチュエータ制御、先進ドローン制御、画像認識制御、自動運転、等々

C 先端材料
表示・プリント材料、環境・エネルギー材料、光・電子デバイス材料、金属・無機・有機および複合材料、ナノ材料、電池と電気化学材料、材料シミュレーション、等々

D 先進加工プロセス
MEMSプロセス、ナノプリントプロセス、精密部品加工、微細表面加工、プラズマ応用加工、先進3Dプリンタ、等々

E その他 助成対象分野に関する評価技術・方法
助成対象分野A~Dに関する量子新技術、評価技術・方法、物理・化学計測、先端物性評価、あるいは学術会議開催経費の助成、等々
助成金額基礎研究活動支援(Basic、以下B区分と略す)
① B-1区分 : 1件最大100万円以下
申請研究者による新分野の開拓、新しい可能性の検証を目指した独創的な発想に基づく、挑戦的な基礎研究(特に、若手研究者の萌芽的研究、緊急性の高い研究室の立ち上げ研究等)。
② B-2区分 : 1件最大200万円以下
研究者あるいはグループによる独創性に優れた発想と一定の研究実績に基づいた応用あるいは実用化を視野に入れた基礎研究(特に、有機的組織による共同研究、地域の特徴を生かした研究等)。

科学技術研究に関する会議開催支援(Symposium、以下S区分と略す): 1件最大100万円以下
大学、研究機関に所属する研究者または代表研究者(組織委員長等)を対象として、上記「助成対象テーマ」に関係する学会等の開催に必要な経費の助成。原則として、日本国内で開催するもので、参加者は概ね100名以上の科学技術研究に関する会議(シンポジウム、ワークショップ等の国際的な研究集会を含む)への助成。
問合わせ先公益財団法人双葉電子記念財団 事務局
MAILお問い合わせフォームが以下のサイト内にあります。
URLhttps://www.futaba-zaidan.org/business/research.html