ローム株式会社では、研究開発の活性化や半導体をはじめとするエレクトロニクス技術の発展を目的として、大学や高等専門学校、公的研究機関に所属する研究者を対象とした、研究公募制度に基づく2025年度開始テーマを募集します。 本制度では、発展型共同研究や大型プロジェクト研究へ移行するようなテーマだけでなく、若手研究者による意欲的なテーマやローム株式会社のニーズに応える新たな視点に立ったテーマを歓迎しています。採択テーマはローム株式会社との共同研究として実施いたしますので、必要性や状況に応じて、ローム株式会社が保有する機器装置等の利用やPoC開発による検証も行います。 | |
申請期限 | 2024年11月11日 |
対象地域 | 全国 |
対象団体 | 大学・高等専門学校および公的研究機関に所属している研究者(個人またはグループ)であって、応募時点で、研究期間の初年度に大学・高等専門学校および公的研究機関に所属する事が見込まれる方。加えて、以下に記す研究公募の制度を理解し、承諾頂ける方。 若手研究者による意欲的な応募を歓迎します。 |
対象活動 | 1-1. AIや統計的手法などデータサイエンス応用による各種課題解決技術 ・上記技術を活用したパワーエレクトロニクス素子特性解析および回路の動作解析 ・自然言語解析等による技術レポート、営業レポート、アンケート、人事データ等を元にした特徴解析 ・行動科学、心理学、人間科学の手法による社内レポート、アンケート、人事データ等を元にした課題探索 ・AI技術を使用した新しい制御手法に関する技術(モーターやDC/DCコンバータなど) 1-2. テラヘルツ波などの電磁波を利用した各種アプリケーション技術、計測技術 ・共鳴トンネルダイオード(RTD)を用いた応用システム開発 ・テラヘルツ波アプリケーション(イメージング、センシング、分析・計測技術など)の開発 1-3. 工法技術の探索 ・Remote Epitaxyを用いたSiC複合基板、及び2D materialsに関するプロセス技術、デバイス技術の開発 ・SiC上に昇華成長したGrapheneの性状同定技術、性状制御技術、各種アプリケーション技術 ・化合物半導体から成るRemote Epi膜を工業的にPeelする際の要素技術、複合基板作製の要素技術 ・基板上に高純度SiC厚膜を応力フリーで形成する技術、応力評価技術 1-4. 新規ロボット制御技術 ・構造、行動、神経系を主とした生物模倣技術 ・地図を使わない自律走行技術NoMaDbot™を使ったアプリケーション技術 1-5. 自由提案テーマ ・いずれにも含まれない、研究開発の活性化やエレクトロニクス技術の発展につながる応募者独自の視点に基づく提案 関連するキーワード AIアルゴリズム、機械学習、強化学習、最適化問題、確率統計学、自然言語処理、センシング、光学設計、分光分析、テラヘルツ波、ミリ波、RFデバイス(能動素子&受動素子)、RFインターフェイス・実装技術、紫外線、赤外線、中性子線検出、2次元材料、ロボティクス、超小型電池、フォトニック結晶材料、シリコンフォトニクス、スピントロニクス、次世代半導体材料、生成AI、制御技術、ハードウェアソフトウェア協調設計 |
助成金額 | 2025年度開始分は、5件程度を新規に採択予定です。 2025年4月1日以降の開始とし、年度単位で最長3年度間。 1件あたりの、研究費の年度ごと申請上限は、税別250万円です(間接経費等を含み、消費税相当分は別途加算します)。研究費は、審査により申請額から減額となる可能性があります。 最近の採択状況(開始年度:件数) 2021年度:4件 2022年度:5件 2023年度:4件 2024年度:5件 |
問合わせ先 | ローム株式会社 研究公募事務局 |
frd_adm@rohm.co.jp | |
URL | https://www.rohm.co.jp/rd/offer |